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CSET-追踪极紫外光刻的出现(英译中)-240726

研报作者: 来自:CSET 时间:2024-07-26 11:29:46
  • 股票名称
  • 股票代码
  • 研报类型
    (PDF)
  • 发布者
    bi***li
  • 研报出处
    CSET
  • 研报页数
    47 页
  • 推荐评级
  • 研报大小
    1,499 KB
研究报告内容
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核心观点

1. 本文介绍了极紫外(EUV)光刻技术的发展历程和重要性,以及该技术对半导体行业和人工智能领域的影响。

2. 通过追踪EUV研究界的发展,文章强调了学术界、工业界和政府之间的合作对新兴技术商业化的重要性,以及政府支持在技术发展过程中的关键作用。

3. 文章总结了决策者在识别和推广新兴技术时可以采用的一组标准,以及新兴技术国际合作、投资和供应链发展的重要性。

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