半导体行业：东海证券-半导体行业深度报告（十一）：光刻机，国产设备发展任重道远，零组件企业或将长期受益-240912

1）光刻技术已经发展到浸没式、多重曝光技术，制程技术达到了3nm以下，光刻机市场规模有望保持增长趋势。

2）国产光刻机整机与零组件企业发展任重道远，但国内零组件企业有望长期受益，建议关注相关优质企业。

3）国产光刻机整机与零组件企业已经逐步形成一定规模，在自主可控势在必行的长期形势下，国产企业有望迎来较大市场机遇。

光刻机是半导体生产中至关重要的设备，随着制程技术的不断提升，对光刻机的要求也越来越高。

目前全球光刻机市场规模巨大，主要由ASML、Nikon、Canon三家公司垄断。

国产光刻机技术仍落后于国外，但国内零部件企业有望长期受益于光刻机产业的发展。

建议关注相关优质企业，但需注意光刻机研发进度、下游需求复苏及国际贸易规则变更等风险。

投资标的：上海微电子、富创精密、茂莱光学、美埃科技、福晶科技、新莱应材 推荐理由：这些公司在光刻机整机、光刻机零部件以及相关领域有较大的市场机遇，且在自主可控势在必行的长期形势下，国产企业有望迎来较大市场机遇。